根據(jù)最新信息《Micromachines》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標學科分區(qū)學科為CHEMISTRY, ANALYTICAL，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名41 / 106，百分位61.8%；INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名26 / 76，百分位66.4%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名84 / 140，百分位40.4%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名67 / 179，百分位62.8%；按JCI指標學科分區(qū)在學科為CHEMISTRY, ANALYTICAL，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名52 / 106，百分位51.42%INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名32 / 76，百分位58.55%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名67 / 140，百分位52.5%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名74 / 179，百分位58.94%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：CHEMISTRY, ANALYTICAL | SCIE | Q2 | 41 / 106 |
61.8% |
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 26 / 76 |
66.4% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 84 / 140 |
40.4% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 67 / 179 |
62.8% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：CHEMISTRY, ANALYTICAL | SCIE | Q2 | 52 / 106 |
51.42% |
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 32 / 76 |
58.55% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 67 / 140 |
52.5% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 74 / 179 |
58.94% |
這表明該刊在分析化學領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：2010年，影響因子：3，出版周期：12 issues/year、出版商：MDPI (Basel, Switzerland)以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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