根據(jù)最新信息《Journal Of Micromechanics And Microengineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名170 / 352，百分位51.8%；INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名29 / 76，百分位62.5%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名102 / 140，百分位27.5%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名96 / 179，百分位46.6%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名200 / 354，百分位43.64%INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名46 / 76，百分位40.13%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名82 / 140，百分位41.79%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名106 / 179，百分位41.06%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 170 / 352 |
51.8% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 29 / 76 |
62.5% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 102 / 140 |
27.5% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 46 / 76 |
40.13% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 82 / 140 |
41.79% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 106 / 179 |
41.06% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1991年，影響因子：2.4，出版周期：Monthly、出版商：IOP Publishing Ltd.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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