根據(jù)最新信息《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名175 / 352，百分位50.4%；ENGINEERING, MANUFACTURING，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名41 / 68，百分位40.4%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名100 / 179，百分位44.4%；PHYSICS, CONDENSED MATTER，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名45 / 79，百分位43.7%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名183 / 354，百分位48.45%ENGINEERING, MANUFACTURING，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名35 / 68，百分位49.26%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名92 / 179，百分位48.88%PHYSICS, CONDENSED MATTER，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名33 / 79，百分位58.86%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 175 / 352 |
50.4% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 41 / 68 |
40.4% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 100 / 179 |
44.4% |
| 學(xué)科：PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q3 | 45 / 79 |
43.7% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 183 / 354 |
48.45% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 35 / 68 |
49.26% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 92 / 179 |
48.88% |
| 學(xué)科：PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q2 | 33 / 79 |
58.86% |
這表明該刊在物理：應(yīng)用領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1988年，影響因子：2.3，出版周期：Quarterly、出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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