《Journal Of X-ray Science And Technology》雜志主要接收以下類型的文章：
工程技術(shù)-光學領(lǐng)域的研究?：文章內(nèi)容涵蓋光學領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)革新和學術(shù)動態(tài)。
高質(zhì)量學術(shù)論文?：雜志對文章質(zhì)量要求較高，通常接收具有創(chuàng)新性和學術(shù)價值的研究成果。
投稿要求
內(nèi)容要求：投稿的文章應涵蓋醫(yī)學的關(guān)鍵主題，提供最新的研究進展和學術(shù)動態(tài)。
格式要求：投稿者需要遵循《Journal Of X-ray Science And Technology》雜志的投稿要求和格式規(guī)范，包括文章結(jié)構(gòu)、引用格式等。
其他信息
《Journal Of X-ray Science And Technology》雜志出版周期：Quarterly，出版地區(qū)：NETHERLANDS，語言：English。
該雜志屬于中科院分區(qū)中大類學科醫(yī)學領(lǐng)域的3區(qū)，小類學科INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION儀器儀表領(lǐng)域的3區(qū)。小類學科OPTICS光學領(lǐng)域的3區(qū)。小類學科PHYSICS, APPLIED物理：應用領(lǐng)域的3區(qū)。
投稿咨詢| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 醫(yī)學 | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
在JCR分區(qū)中為Q3（ 按JIF指標學科分區(qū)學科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名44 / 76，百分位42.8%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名73 / 119，百分位39.1%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名125 / 179，百分位30.4%； 按JCI指標學科分區(qū)在學科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名35 / 76，百分位54.61%OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名59 / 120，百分位51.25%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名77 / 179，百分位57.26% ）。
目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預計為：平均審稿速度為 約3.0個月 ，影響因子指數(shù)1.7。
該雜志創(chuàng)刊至今，在醫(yī)學-儀器儀表領(lǐng)域，影響力非凡，對來稿文章質(zhì)量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術(shù)水平和編輯質(zhì)量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領(lǐng)域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領(lǐng)域的研究者提交投稿。
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