根據(jù)最新信息《Journal Of X-ray Science And Technology》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名44 / 76，百分位42.8%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名73 / 119，百分位39.1%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名125 / 179，百分位30.4%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名35 / 76，百分位54.61%OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名59 / 120，百分位51.25%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名77 / 179，百分位57.26%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 44 / 76 |
42.8% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 73 / 119 |
39.1% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 125 / 179 |
30.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 35 / 76 |
54.61% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 59 / 120 |
51.25% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 77 / 179 |
57.26% |
這表明該刊在儀器儀表領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1989年，影響因子：1.7，出版周期：Quarterly、出版商：IOS Press以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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