如果論文被《Micro And Nano Engineering》雜志拒稿，可以采取以下策略進(jìn)行應(yīng)對(duì)和改進(jìn)，以提高再次投稿的成功率：
一、分析拒稿原因
1.仔細(xì)閱讀審稿意見：編輯和審稿人通常會(huì)提供詳細(xì)的拒稿理由，包括研究創(chuàng)新性不足、實(shí)驗(yàn)方法缺陷等。
2.區(qū)分“可修改”與“不可修改”問題：
可修改：如語言問題、格式不符、實(shí)驗(yàn)補(bǔ)充等，可針對(duì)性改進(jìn)。
不可修改：如期刊主題不符，則需另選目標(biāo)期刊。
二、針對(duì)反饋，修改完善
補(bǔ)充實(shí)驗(yàn)或數(shù)據(jù)：針對(duì)審稿人提出的數(shù)據(jù)或分析缺陷，補(bǔ)充實(shí)驗(yàn)以增強(qiáng)說服力。?
強(qiáng)化創(chuàng)新性：明確論文填補(bǔ)的研究空白，并在引言和討論部分突出其學(xué)術(shù)價(jià)值?。
語言與格式規(guī)范：使用專業(yè)工具潤色語言，確保格式符合目標(biāo)期刊要求?。?
三、調(diào)整投稿策略
修改后重投原期刊?：若編輯允許修改后重投（如“大修”狀態(tài)），需逐條回復(fù)審稿意見并提交修訂稿。
改投其他期刊?：若因“選題不匹配”被拒，選擇研究方向更契合的期刊。
通過這些措施，作者可以將拒稿轉(zhuǎn)化為學(xué)術(shù)成長的機(jī)會(huì)，進(jìn)一步提升自己的研究能力。
《Micro And Nano Engineering》雜志簡介與數(shù)據(jù)分析
基本信息：
出版商：Elsevier
出版語言：English
國際簡稱：Micro and Nano Engineering
中文名稱：微納米工程
ISSN：2590-0072；
研究方向：Engineering-Electrical and Electronic Engineering?
權(quán)威數(shù)據(jù)庫：SCIE
定位與覆蓋范圍：
定位：專注發(fā)布Engineering-Electrical and Electronic Engineering領(lǐng)域的學(xué)術(shù)期刊。
覆蓋范圍：涵蓋Electrical and Electronic Engineering等領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)等，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。
數(shù)據(jù)與影響力分析
影響因子：根據(jù)最新數(shù)據(jù)，《Micro And Nano Engineering》雜志的影響因子為2.8，顯示其在Engineering-Electrical and Electronic Engineering領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q2 | 151 / 352 |
57.2% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | ESCI | Q3 | 229 / 438 |
47.8% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | ESCI | Q3 | 89 / 140 |
36.8% |
| 學(xué)科：OPTICS | ESCI | Q2 | 43 / 119 |
64.3% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | ESCI | Q2 | 74 / 179 |
58.9% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q3 | 184 / 354 |
48.16% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | ESCI | Q3 | 232 / 438 |
47.15% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | ESCI | Q3 | 77 / 140 |
45.36% |
| 學(xué)科：OPTICS | ESCI | Q3 | 66 / 120 |
45.42% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | ESCI | Q3 | 95 / 179 |
47.21% |
年發(fā)文量：60，審稿周期預(yù)計(jì)為：平均審稿速度為 14 Weeks ，CiteScore：3.3、SJR：0.489、SNIP：0.942。
CiteScore 排名
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 394 / 797 |
50% |
| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 117 / 224 |
47% |
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 229 / 434 |
47% |
| 大類：Engineering 小類：Surfaces, Coatings and Films | Q3 | 73 / 132 |
45% |
| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 160 / 284 |
43% |
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