根據(jù)最新信息《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名389 / 438,百分位11.3%;NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名131 / 140,百分位6.8%;OPTICS,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名104 / 119,百分位13%;PHYSICS, APPLIED,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名165 / 179,百分位8.1%;按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名379 / 438,百分位13.58%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名125 / 140,百分位11.07%OPTICS,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名110 / 120,百分位8.75%PHYSICS, APPLIED,收錄子集:SCIE,位于Q4區(qū),排名160 / 179,百分位10.89%。
投稿咨詢按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 389 / 438 |
11.3% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 131 / 140 |
6.8% |
學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q4 | 104 / 119 |
13% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1% |
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學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 379 / 438 |
13.58% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 125 / 140 |
11.07% |
學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q4 | 110 / 120 |
8.75% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89% |
這表明該刊在材料科學(xué):綜合領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:2006年,影響因子:0.8,出版周期:Tri-annual、出版商:Japan Laser Processing以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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