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Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena SCIE

電子能譜及相關(guān)現(xiàn)象雜志雜志

中科院分區(qū):4區(qū) JCR分區(qū):Q2 預計審稿周期: 較慢,6-12周

《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》是一本由Elsevier出版商出版的物理與天體物理國際刊物,國際簡稱為J ELECTRON SPECTROSC,中文名稱電子能譜及相關(guān)現(xiàn)象雜志。該刊創(chuàng)刊于1972年,出版周期為Monthly。 《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》2023年影響因子為1.8,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:0368-2048
研究方向:物理-光譜學
是否預警:否
E-ISSN:1873-2526
出版地區(qū):NETHERLANDS
Gold OA文章占比:27.69%
語言:Multi-Language
是否OA:未開放
OA被引用占比:0.0653...
出版商:Elsevier
出版周期:Monthly
影響因子:1.8
創(chuàng)刊時間:1972
年發(fā)文量:74
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導航

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 雜志簡介

《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》重點專注發(fā)布物理-光譜學領(lǐng)域的新研究,旨在促進和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在物理-光譜學領(lǐng)域,有較高影響力,對來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) SPECTROSCOPY 光譜學 4區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果,是衡量學術(shù)期刊影響力的一個重要指標,一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認為是該學科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:SPECTROSCOPY SCIE Q2 22 / 44

51.1%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:SPECTROSCOPY SCIE Q2 16 / 44

64.77%

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:3.3
  • SJR:0.506
  • SNIP:0.68

CiteScore 排名

學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Radiation Q2 26 / 58

56%

大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 116 / 224

48%

大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 227 / 434

47%

大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 158 / 284

44%

大類:Physics and Astronomy 小類:Physical and Theoretical Chemistry Q3 115 / 189

39%

大類:Physics and Astronomy 小類:Spectroscopy Q3 49 / 76

36%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學術(shù)期刊質(zhì)量的指標,該指標是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標,給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 雜志發(fā)文統(tǒng)計

文章名稱引用次數(shù)

  • XPS in industry-Problems with binding energies in journals and binding energy databases15
  • Chemical bonding in carbide MXene nanosheets14
  • Chemical surface analysis on materials and devices under functional conditions - Environmental photoelectron spectroscopy as non-destructive tool for routine characterization11
  • Imaging XPS for industrial applications10
  • Automated electron-optical system optimization through switching Levenberg-Marquardt algorithms10
  • Electronic and magnetic properties of the (001) surface of the CoNbMnSi Heusler alloy: First-principles calculations9
  • Reliable absorbance measurement of liquid samples in soft X-ray absorption spectroscopy in transmission mode9
  • Electronic properties of composite iron (II, III) oxide (Fe3O4) carbonaceous absorber materials by electron spectroscopy8
  • Investigation of local geometrical structure, electronic state and magnetic properties of PLD grown Ni doped SnO2 thin films6
  • Effect of argon sputtering on XPS depth-profiling results of Si/Nb/Si6

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • USA39
  • CHINA MAINLAND31
  • GERMANY (FED REP GER)30
  • India28
  • Japan26
  • Italy19
  • Russia15
  • Sweden15
  • France13
  • Poland12

機構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE)12
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES11
  • CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR)9
  • TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN9
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)8
  • HELMHOLTZ ASSOCIATION8
  • UPPSALA UNIVERSITY8
  • CZECH ACADEMY OF SCIENCES7
  • HUNAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY7
  • UNIVERSITY OF DELHI7

Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena 雜志社通訊方式

《Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena》雜志通訊方式為:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。詳細征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導服務,SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學術(shù)規(guī)范,詳情請咨詢客服。

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