Direito E Praxis SCIE
法律與實(shí)踐雜志
JCR分區(qū)：Q4 預(yù)計(jì)審稿周期： 20 Weeks
《Direito E Praxis》是一本由Universidade do Estado do Rio de Janeiro出版商出版的國(guó)際刊物，國(guó)際簡(jiǎn)稱為DIREITO PRAX，中文名稱法律與實(shí)踐。出版周期為。 《Direito E Praxis》2023年影響因子為0.2，被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE。
- ISSN：2179-8966
- 研究方向：LAW
- 是否預(yù)警：否
- 出版地區(qū)：Brazil
- Gold OA文章占比：87.25%
- 語(yǔ)言：English、Portuguese
- 是否OA：開放
- 出版商：Universidade do Estado do Rio de Janeiro
- 影響因子：0.2
- 年發(fā)文量：105