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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems SCIE

微納光刻技術雜志雜志

中科院分區(qū):2區(qū) JCR分區(qū):Q3 預計審稿周期: 較慢,6-12周

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》是一本由SPIE出版商出版的物理與天體物理國際刊物,國際簡稱為J MICRO-NANOLITH MEM,中文名稱微納光刻技術雜志。該刊創(chuàng)刊于2007年,出版周期為Quarterly。 《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》2023年影響因子為0,被收錄于國際知名權威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:1932-5150
研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
是否預警:否
E-ISSN:1932-5134
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:7.69%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:
出版商:SPIE
出版周期:Quarterly
創(chuàng)刊時間:2007
年發(fā)文量:0
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 通訊方式 相關雜志 期刊導航

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 雜志簡介

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》重點專注發(fā)布ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領域的新研究,旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。根據(jù)網(wǎng)友分享的投稿經(jīng)驗,平均審稿速度為 較慢,6-12周 。該雜志創(chuàng)刊至今,在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領域,影響力非凡,對來稿文章質(zhì)量要求很高,稿件投稿過審難度很大,刊登文章的學術水平和編輯質(zhì)量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文,你可以向編輯部提交文章,但文章必須具有重要意義并代表該領域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領域的研究者提交投稿。

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果,是衡量學術期刊影響力的一個重要指標,一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認為是該學科領域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

32.2%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

25.6%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

15.4%

學科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

32.5%

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:3.4
  • SJR:0.393
  • SNIP:1.723

CiteScore 排名

學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

55%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

51%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

49%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

48%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

45%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學術期刊質(zhì)量的指標,該指標是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標,給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 雜志社通訊方式

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志通訊方式為:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。詳細征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導服務,SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學術規(guī)范,詳情請咨詢客服。

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