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雜志簡(jiǎn)介中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式相關(guān)雜志期刊導(dǎo)航

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志簡(jiǎn)介

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》重點(diǎn)專注發(fā)布材料科學(xué)：膜-工程技術(shù)領(lǐng)域的新研究，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今，在材料科學(xué)：膜-工程技術(shù)領(lǐng)域，有較高影響力，對(duì)來稿文章質(zhì)量要求較高，稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)

中科院SCI期刊分區(qū)（2023年12月升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院SCI期刊分區(qū)（2022年12月升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
材料科學(xué)	2區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月舊的升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月基礎(chǔ)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
材料科學(xué)	3區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	3區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院SCI期刊分區(qū)（2020年12月舊的升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
材料科學(xué)	2區(qū)	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué)：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	2區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

影響因子趨勢(shì)圖

中科院JCR分區(qū)：中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)，一般而言，發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文，通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(kù)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	13 / 23	45.7%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	96 / 179	46.6%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	12 / 23	50%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	88 / 179	51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore：5.1
SJR：0.569
SNIP：0.957

CiteScore 排名

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q2	135 / 434	69%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces and Interfaces	Q2	19 / 57	67%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	45 / 132	66%

CiteScore趨勢(shì)圖

年發(fā)文量趨勢(shì)圖

CiteScore：是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo)，該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo)，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)
Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects72
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition26
Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements23
Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition19
Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition16
Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film14
Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development14
Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook13
Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices12
Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry11
國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量
USA368
Japan77
GERMANY (FED REP GER)61
South Korea56
France44
Sweden33
CHINA MAINLAND31
England29
Finland26
Netherlands26
機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE)58
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)30
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE26
LINKOPING UNIVERSITY25
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM24
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM20
CEA18
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM17
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND17
LAM RESEARCH CORPORATION16

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